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US-Uni Berkeley meldet Fortschritte in der Chipherstellung

 

Plasmon-Linsen bieten Alternative zur herkömmlichen Lithographie.

(Berkeley, 28.10.2008) Wissenschaftler an der University of California in Berkeley melden Fortschritte bei der Erforschung der Chipherstellung ohne die bisher üblichen Masken. Sie entwickelten ein neues Verfahren zur Belichtung von feinsten Strukturen, bei dem eine Plasmon-Linse aus Silber mit herkömmlichen langwelligem UV-Licht bestrahlt wird, die dann auf der anderen Seite ein Licht mit einer deutlich kleineren Wellenlänge abgibt. Über einen quantenmechanischen Effekt - freie Elektronen beginnen an der Oberfläche von Metallen zu schwingen, wenn sie dem Licht ausgesetzt sind - konnten Halbleiterstrukturen mit wesentlich kürzeren Wellenlängen und damit deutlich geringeren Strukturbreiten hergestellt werden.


Derzeit werden Chips mittels Masken und Belichtung mit Lithographie hergestellt. Die Wissenschaftler wollen das Problem der geringen Schreibgeschwindigkeit von maskenloser Lithographie lösen. In drei bis fünf Jahren soll das Verfahren für die industrielle Anwendung geeignet sein.

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